蘋果將在A15芯片中使用臺積電的5納米技術(shù)

　　蘋果今年下半年推出新款iPad及iPhone 12產(chǎn)品線，采用自家設(shè)計的A14系列處理器，其中，iPad Air及iPhone 12全系列都采用A14應(yīng)用處理器，至于即將在11月發(fā)表的Arm架構(gòu)Macbook則會採用自行研發(fā)的A14X處理器。蘋果A14以及A14X均已在臺積電采用5奈米制程量產(chǎn)。

　　晶圓代工龍頭臺積電及微影設(shè)備大廠ASML于上周法人說明會透露了更多3奈米細節(jié)。臺積電3奈米采用鰭式場效電晶體(FinFET)架構(gòu)及極紫外光(EUV)微影技術(shù)，邏輯密度與5奈米相較將大幅增加70%，且EUV光罩層數(shù)將倍增且超過20層。因此，臺積電積極采購EUV曝光機設(shè)備，未來三~五年仍將是擁有全球最大EUV產(chǎn)能的半導體廠，包括家登及崇越等供應(yīng)商可望受惠。

　　臺積電EUV微影技術(shù)已進入量產(chǎn)且制程涵蓋7+奈米、6奈米、5奈米。據(jù)設(shè)備業(yè)者消息，臺積電7+奈米采用EUV光罩層最多達四層，超微新一代Zen 3架構(gòu)處理器預(yù)期是采用該制程量產(chǎn)。6奈米已在第四季進入量產(chǎn)，EUV光罩層數(shù)較7+奈米增加一層，包括聯(lián)發(fā)科、輝達、英特爾等大廠都將採用6奈米生產(chǎn)新一代產(chǎn)品。

　　臺積電下半年開始量產(chǎn)5奈米制程，主要為蘋果量產(chǎn)A14及A14X處理器，包括超微、高通、輝達、英特爾、博通、邁威爾等都會在明年之后導入5奈米制程量產(chǎn)新一代產(chǎn)品。5奈米EUV光罩層數(shù)最多可達14層，所以Fab 18廠第一期至第三期已建置龐大EUV曝光機臺設(shè)備因應(yīng)強勁需求，臺積電明年將推出5奈米加強版N5P制程并導入量產(chǎn)，后年將推出5奈米優(yōu)化后的4奈米制程，設(shè)備業(yè)者預(yù)期N5P及4奈米的EUV光罩層數(shù)會較5奈米增加。

　　臺積電在日前的法說會中宣布，3奈米研發(fā)進度符合預(yù)期且會是另一個重大制程節(jié)點，與5奈米制程相較，3奈米的邏輯密度可增加70%，在同一功耗下可提升15%的運算效能，在同一運算效能下可減少30%功耗。3奈米制程采用的EUV光罩層數(shù)首度突破20層，業(yè)界預(yù)估最多可達24層。

　　ASML執(zhí)行長Peter Wennink在日前法說會中指出，5奈米邏輯制程采用的EUV光罩層數(shù)將超過10層，3奈米制程采用的EUV光罩層數(shù)會超過20層，隨著制程微縮EUV光罩層數(shù)會明顯增加，并取代深紫外光(DUV)多重曝光制程。

　　臺積電5奈米及3奈米的EUV光罩層數(shù)倍數(shù)增加，提供EUV光罩盒(EUV Pod)的家登受惠最大，今、明兩年產(chǎn)能均已被大客戶預(yù)訂一空。至于EUV產(chǎn)能大幅提高，代理EUV光阻液的崇越接單暢旺，訂單同樣排到明年下半年。